森田化学工业株式会社

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沿革

1917 已故森田鎌三,设立森田制药所,在日本首次氢氟酸的商业生产成功,并成为国产化
1920 扩大氟化钠、氟化铵的国产化。
1933 氟化铝成为国产化。
1935 11月4日: 由合股公司转变为株式会社,设立森田化学工业株式会社。
1937 开设东京分社(现东京分公司)。
1960 神崎川工厂的建造开始动工。1968年,旧本社工(东大阪市长堂)的制造设备依次搬移,制造部门的搬移完成。
1970 在界6区的临海工业地区所取得的工业用地上,导入外国技术,氟化铝(年产值15,000吨)的制造设备于8月动工,1971年6月完工。
1972 作为界工厂第2期工程,无水氟化氢(年产值17,000吨)的制造设备于2月动工,1973年5月完工。
1983 神崎川事业所的半导体药品制造大楼竣工。
1991 神崎川事业所的分析中心 & 研究大楼竣工。
1993 在神崎川事业所,根据半导体药品的自动搬送系统而新设了大型容器填充设备。
1994 在神崎川事业所新设FL-7制造设备。
1995 界事业所的半导体药品事业部取得ISO9002认证。
1996 神崎川事业所的六氟磷酸锂制造大楼竣工。
总公司地址迁移至大阪市北区豐崎3-19-3。
1999 界事业所的无水氟化氢制造设备FA化完成。
扩大神崎川事业所的ISO9002认证。
2001 10月:界事业所取得ISO9001认证。
2002 1月:界事业所的高纯度氟化钙制造大楼竣工。
9月:总公司地址迁移至大阪市中央区平野町3-5-12。
2003 1月:取得ISO14001认证。
4月:东京分公司迁移至(东京都千代田区内神田1-2-8)。
7月:界事业所的FL-7 & 氟化钙制造大楼竣工。
10月:神崎川事业所取得ISO9001认证。
11月:于中国浙江省设立制造氢氟酸的新公司。(现浙江森田新材料有限公司)
2004 1月:于中国江苏扬子江国际化学工业园设立制造锂离子电池用电解质的新公司。(现森田新能源材料(张家巷)有限公司)
2006 5月:总公司地址迁移至现所在地(大阪市中央区久太郎4-1-3)。
2009 2月:半导体级氢氟酸增产设备完成。
2010 4月:于韩国牙山市设立制造半导体、液晶用的蚀刻液、清洗液的新公司FEM Technology Co., Ltd.
2017 3月:将东京分公司迁移至现所在地(东京都中央区日本桥本町3-4-5)
4月:森田化学工业株式会社创立100周年
2018 8月:Morita Materials GmbH成立。