TOPページ
  • 企業情報
  • 製品情報
  • 採用情報
  • お問い合わせ
  • 製品情報 INDEX
  • リチウム電池用フッ素化合物
    光学レンズ用フッ素化合物
  • アルミニウムろう付け用フラックス
  • 半導体用フッ化水素酸と半導体用フッ化物薬液
  • フッ化水素酸とその塩類
  • ケイフッ化水素酸とその塩類
  • チタンフッ化水素酸とその塩類
    ジルコンフッ化水素酸とその塩類
  • ホウフッ化水素酸とその塩類
    三フッ化ホウ素ガスとその錯塩
  • 新規製品
| 半導体用フッ化水素酸と半導体用フッ化物薬液  INDEXへ戻る |

FPM洗浄液

HF-H2O2 Cleaning Solution

化学式 HF+H2O2
分子量 20.01(HF)、34.02(H2O2)
外観 無色の液体
包装 100kg   20kg
官報公示整理番号 1-306(HF)   1-419(H2O2)
CAS No. 7664-39-3(HF)   7722-84-1(H2O2)
PAGE TOP
森田化学工業株式会社
2010 (C) MORITA CHEMICAL INDUSTRIES CO., LTD.